日本 orc  uv照射装置 uv干燥处理器 hmw-615n-3/hmw-615n-4  

uv干燥处理器

hmw-615n-3/hmw-615n-4/vum-3073f

该装置通过在形成**图案的过程中（例如半导体制造工艺和液晶基板制造工艺）将uv照射到残留在基板表面上的**物质，以非接触方式去除**污染物。 

可以清洁和重新形成表面而不损坏基板。

◆特点

1它有自己的低压紫外灯，对电路板的损坏较小，分解**物质的能力**。

2当使用基板的振荡模式时，uv光均匀地照射到基板上。

4也可以应用切除臭氧的照射方法，吹扫的照射方法。

部分型号：

qrm-2288/qrm-2300/qrm-2215/vue-3020-172/vus-3100-r/vus-3100/hmw-615n-3/hmw-615n-4/vum-3073f/vum-3500/

vus-3300/qru-2161-f/qru-2161-h/ohd-110m-st/uv 300 w/uv 100 w/luv-l330-mix/luv-l330-mix2/uvs-201d-1/

uv-m10-p / s/uv-m03a/uv-m 08/uv-351 

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说明：

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